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真空濺射蒸鍍用品產(chǎn)品及廠家

磁控濺射系統(tǒng)NSC-4000 (M)
nano-master杰出的濺射系統(tǒng)可構(gòu)建成多腔體和多蒸發(fā)源的配置，在介質(zhì)上濺射金屬和介質(zhì)材料，最大可支持200mm的襯底。系統(tǒng)可以配置dc直流、rf射頻和pulse dc脈沖直流等電源來進(jìn)行序列濺射或共濺射。 系統(tǒng)使用渦輪分子泵組，工藝腔極限真空可達(dá)5 x 10-7torr？梢酝ㄟ^調(diào)節(jié)靶基距，實(shí)現(xiàn)所需要的均勻度和沉積速率的調(diào)節(jié)。旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可提供薄膜最優(yōu)的均勻性。
更新時(shí)間:2025-01-06
NTE-3000 熱蒸鍍系統(tǒng)
nte-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：nano-master nte-3000是一款pc計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計(jì)經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實(shí)現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過程。它們具有低價(jià)格, 高性能以及高能力的特點(diǎn)，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求。 nte-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)可以在設(shè)定的rms電流下，或者在閉環(huán)的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調(diào)節(jié)rms電流以維持恒定的沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06

最新產(chǎn)品

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