等離子清洗器產(chǎn)品及廠家
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)？梢詫Σ荒蜐駸岬钠餍颠M(jìn)行低溫快速滅菌。特別是對醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導(dǎo)線、電池等）和非金屬類（如導(dǎo)管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時間:2025-01-15
trigonal砂輪范圍包括trigonal金剛石砂輪和trigonal cbn砂輪。trigonal砂輪公司以創(chuàng)/新和ling活為特色, 響應(yīng)個人客戶的要求, 確bao您的打磨項目量身定做和全/面實施。
更新時間:2025-01-14
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時間:2025-01-13
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進(jìn)行整合，可以滿足生產(chǎn)企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進(jìn)行定制。
更新時間:2025-01-13
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-01-13
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-01-13
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時間:2025-01-13
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術(shù)可應(yīng)用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時間:2025-01-13
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時間:2025-01-13
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時間:2025-01-13
nie-3500 (mc)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計算機(jī)全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊化設(shè)計易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-01-06
npc-3000等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子灰化和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用
更新時間:2025-01-06
nie-3000 (c) 離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為手動放片取片，但通過計算機(jī)全自動實現(xiàn)工藝控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊化設(shè)計易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-01-06
nie-3500 (ac)全自動離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動上下載片，并且通過計算機(jī)全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊化設(shè)計易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-01-06
npe-4000（m） pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時間:2025-01-06
npe-4000（a）全自動pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時間:2025-01-06
npc-4000（m）等離子清洗機(jī)概述：nano-master 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時間:2025-01-06
npc-3500（a）全自動等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
npc-4000（a）全自動等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時間:2025-01-06
hty-30a型真空泵是設(shè)計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護(hù)等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設(shè)計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護(hù)等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套，采用負(fù)壓抽濾方式進(jìn)行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設(shè)備使
更新時間:2024-12-31
nano indenter g200x提供了一種易于使用的納米機(jī)械測試儀，可快速提供準(zhǔn)確的定量結(jié)果。g200x系統(tǒng)處理從硬涂層到軟聚合物的各種樣品，并提供kla儀器納米壓痕儀產(chǎn)品線中全面的測試套件。
更新時間:2024-12-30
德國diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等？蛇x擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時間:2024-12-30
2.6 升的low-cost-plasma-laboranlage zepto 為手動型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時間:2024-12-30
德國diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機(jī)可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等？蛇x擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時間:2024-12-30
10.5 升的low-cost-plasma-laboranlage atto 為手動型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時間:2024-12-30
德國diener electronic成立于1993年，是低溫等離子工業(yè)的導(dǎo)者，是一家門研發(fā)和制造低溫低壓等離子清洗機(jī)、等離子射頻電源和大氣（常壓）等離子清洗機(jī)的高科技企業(yè)。
更新時間:2024-12-30
diener等離子表面處理設(shè)備 德國原裝進(jìn)口德國diener是門生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設(shè)備的公司, 是上材料處理低溫等離子體設(shè)備的市場和技術(shù)先者。diener采用先進(jìn)的集成化技術(shù)開發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40khz 、80khz、13.56mhz，以及代表等離子應(yīng)用先進(jìn)技術(shù)的2.45ghz的等離子清洗機(jī)。
更新時間:2024-12-30
diener,plasmbeam,plasmbeam pc,plasmbeam大氣壓等離子清洗機(jī)/等離子表面處理
更新時間:2024-12-30
iener等離子表面處理設(shè)備 德國原裝進(jìn)口德國diener是門生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設(shè)備的公司, 是上材料處理低溫等離子體設(shè)備的市場和技術(shù)先者。diener采用先進(jìn)的集成化技術(shù)開發(fā)生產(chǎn)射頻頻率為40khz 、80khz、13.56mhz，以及代表等離子應(yīng)用先進(jìn)技術(shù)的2.45ghz的等離子清洗機(jī)。
更新時間:2024-12-30
benchplasmacleaner小型等離子清洗系統(tǒng)pdc32g和pdc002hpc系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設(shè)備域當(dāng)之無愧的先者，我們?yōu)閷嶒炇已邪l(fā)提供性價比高的小型等離子清洗設(shè)備，已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗。harrick等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍：*清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
更新時間:2024-12-30
pico 等離子設(shè)備能夠以不同的形式進(jìn)行整合，例如以模塊系統(tǒng)的形式。在下文中您可以大致了解能夠與 pico 等離子系統(tǒng)一同使用的常見的選裝件。
更新時間:2024-12-30
spk-500s 寬幅等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)，氣體通過激勵電源離化成等離子態(tài)，等離子體作用于產(chǎn)品表面，清洗產(chǎn)品表面污染物，提高表面活性，增強(qiáng)附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。
更新時間:2024-12-30
光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機(jī)等；美國公司為全球先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技域；該公司是目上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。
更新時間:2024-12-30
原子層沉積系統(tǒng)atomic layer deposition system 產(chǎn)地：美國angstrom；型號：angstrom dep ii, angstrom dep
更新時間:2024-12-30
vpg+800 / vpg+1100 / vpg+1400大尺寸超高速圖形發(fā)生器the multi-purpose volume pattern generators
更新時間:2024-12-30
nanofrazor scholar適合科研域的中小型實驗凈房與納米加工的學(xué)術(shù)研究域thermal scanning probe lithography toolwith in-situ imaging and grayscale patterning capabilities
更新時間:2024-12-30
mpo 100雙光子聚合 (tpp) 多用途工具multi-user tool for 3d lithography and 3d microprinting
更新時間:2024-12-30
jem-2800是日本電子透射電子顯微鏡系列中的一款特殊設(shè)計的產(chǎn)品，在兼顧高分辨高穩(wěn)定性的同時，求分析效率的大化和操作的自動化。顛覆傳統(tǒng)的電鏡外觀設(shè)計，除了讓人耳目一新外，還對設(shè)置環(huán)境更具抗干擾能力。
更新時間:2024-12-30
016年新年伊始，日本電子株式會社（jeol）即全球同步推出了新款場發(fā)射透射電鏡jem-f200。 為了全面整合近年發(fā)展起來的透射電鏡上的各種功能，jem-f200進(jìn)行了全新設(shè)計，在保障各種功能達(dá)到限的同時，追求操作的簡單化和自動化，為用戶提供透射電鏡操作的全新體驗。
更新時間:2024-12-30
最新產(chǎn)品
- 希而科優(yōu)勢供應(yīng) 原裝進(jìn)口Uhing 線性搬運(yùn)單元 RG4L系列 2025/1/23 10:16:37
- 蚌埠龍子湖05341600調(diào)制音叉驅(qū)動板 2025/1/23 10:15:02
- 重慶渝中TK-IDD321A系列DI模塊 2025/1/23 10:14:49
- 合肥蜀山05440501IO接口終端板 2025/1/23 10:14:30
- 重慶武隆LDZ094726C過溫保護(hù)器 2025/1/23 10:14:10
- 滁州全椒SIEMENS中壓變頻器功率單元A5E42740246 2025/1/23 10:13:56
- 合肥長豐A5E35236834存儲卡 2025/1/23 10:13:41
- 重慶潼南5366400厚度震蕩板 2025/1/23 10:13:26
- 阜陽臨泉A5E35236834存儲卡 2025/1/23 10:13:09
- 重慶涪陵A5E01231722電源 2025/1/23 10:12:56
- 流通式多參數(shù)水質(zhì)分析儀 2025/1/23 10:12:50
- 重慶墊江A1A10000623.00MCPU板價值高復(fù)購率高 2025/1/23 10:12:37
- 巢湖和縣G5P2100AW/OBYPASSCellAssy序列號：Z8-195350140-147 2025/1/23 10:12:22
- 合肥肥西TC-OAV081數(shù)字量輸出模塊 2025/1/23 10:12:09
- 重慶九龍坡A5E00755411+6SL3353-3AE41-5BA0+6SL3350-6TK00-0EA0電源板 2025/1/23 10:11:56
- 重慶九龍坡HONEYWELL08369100主板 2025/1/23 10:11:42
- 宣城績溪A1A0100275變頻器電源模塊復(fù)購率高 2025/1/23 10:11:26
- 宣城績溪00847537燈泡 2025/1/23 10:11:09
- 淮北濉溪6580801390CPU價值高復(fù)購高 2025/1/23 10:10:58
- 合肥肥東LDZ31500082.375功率單元好東西 2025/1/23 10:10:43
- 阜陽阜南LDZ10500424.040功率單元常復(fù)購型號 2025/1/23 10:10:28
- 黃山徽州SIEMENSA5E03407403通訊板 2025/1/23 10:10:14
- 希而科優(yōu)勢供應(yīng) 原裝進(jìn)口ULTRAFILTER 濾芯 SMF系列 2025/1/23 10:10:03
- 宣城郎溪SIEMENSLDZ14501002.260功率單元 2025/1/23 10:09:53
- 水利輸水管涵綜合管廊潛望鏡檢測設(shè)備X1-P1 2025/1/23 10:09:43
- 蚌埠蚌山A5E39206479 2025/1/23 10:09:32
- 六安金安A1A10000350.00M變頻器單元控制板 2025/1/23 10:09:16
- 滁州瑯琊05333000水份燈電源板 2025/1/23 10:08:57
- 青島氣密性檢測設(shè)備 性能檢測設(shè)備 裝配自動化設(shè)備 2025/1/23 10:08:57
- 重慶江北A5E32855090功率單元 2025/1/23 10:08:40