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離子濺射儀產(chǎn)品及廠家

全自動(dòng)真空離子濺射儀噴金儀 磁控濺射鍍膜導(dǎo)電處理
全自動(dòng)真空離子濺射儀噴金儀 磁控濺射鍍膜導(dǎo)電處理優(yōu)勢看得見：雙路氣體接入兩種氣體自由接入；全自動(dòng)手動(dòng)雙模式，全自動(dòng)手動(dòng)雙模式，即可一鍵工作，也可自由設(shè)定；真空腔體加厚，真空腔體加厚可承受更大的真空度；人機(jī)界面觸控屏，人機(jī)界面觸控屏，方便操作，減少控制失誤。
更新時(shí)間:2025-01-06
NSC-1000 磁控濺射系統(tǒng)
nsc-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06
NSC-3000 (M) 磁控濺射系統(tǒng)
nsc-3000（m）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06
NSC-3000 (A) 全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
nsc-3000（a）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06
NSC-4000 (A) 全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
nsc-4000（a）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，最大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06

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