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離子濺射儀產(chǎn)品及廠家

NSC-3000 (M) 磁控濺射系統(tǒng)
nsc-3000(m)磁控濺射系統(tǒng)概述:帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能,最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái),最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06
NSC-3000 (A) 全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
nsc-3000(a)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述:帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能,最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái),最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06
NSC-4000 (A) 全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
nsc-4000(a)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述:帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能,最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái),最大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時(shí)間:2025-01-06

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