燃燒爐產(chǎn)品及廠家
1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐otf-1200x-v每個(gè)溫區(qū)分別由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，通過(guò)調(diào)節(jié)各個(gè)溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度，或形成較長(zhǎng)的恒溫區(qū)域。本機(jī)用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)或小批量生產(chǎn)，主要針對(duì)電子陶瓷的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（cvd）等工藝。具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-01-02
1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐otf-1200x-ⅲ每個(gè)溫區(qū)分別由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多等特點(diǎn)。本機(jī)可通氣氛抽真空，操作簡(jiǎn)單，安全可靠。
更新時(shí)間:2025-01-02
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：gsl-1200x-mgi-8是一款1200℃小型8通道管式爐，其爐管直徑為20mm，可用于高通量燒結(jié)，最高溫度可達(dá)1200℃。每個(gè)加熱模塊都由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，每個(gè)爐管采用真空法蘭密封，可同時(shí)放入8個(gè)樣品，在真空或
更新時(shí)間:2025-01-02
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：otf-1200x-s-dvd是一款小型坩堝移動(dòng)管式爐（通過(guò)磁鐵推動(dòng)坩堝移動(dòng)），其爐管直徑為50mm,爐體工作溫度為≤1200℃，此款設(shè)備設(shè)計(jì)針對(duì)于直接蒸發(fā)沉積或快速熱處理實(shí)驗(yàn)，用于二維材料的生長(zhǎng)。
更新時(shí)間:2025-01-02
帶3路浮子混氣rtp管式爐rtp-1000-lv3f是專為半導(dǎo)體基片、太陽(yáng)能電池及其它樣品（尺寸可達(dá)3"）的退火而設(shè)計(jì)，配有3路流量計(jì)和機(jī)械泵。本機(jī)采用 9kw的紅外燈進(jìn)行加熱，最快升溫速度可達(dá) 100℃/s，配有rs485 接口，可以通
更新時(shí)間:2025-01-02
小型1000℃rtp爐otf-1200x-4-rtp 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4"石英管和真空法蘭，是專為半導(dǎo)體或太陽(yáng)能電池基片（最大3"）的退火而設(shè)計(jì)。本機(jī)采用10kw紅外燈管加熱，最快升溫速度為 50℃/s，設(shè)有30段溫度控制，精度為±1℃。此外，通過(guò)rs485口和控制軟件可在計(jì)算機(jī)上實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)控制和溫度曲線顯示。
更新時(shí)間:2025-01-02
0x-4-rtp-sl是一種快速熱處理爐，采用紅外燈加熱和移動(dòng)爐體快速冷卻，可獲得最高升溫速率為100°c/s 、降溫速率為5°c/s。
更新時(shí)間:2025-01-02
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：msm20-8（非自耗式）微型金屬熔煉吸鑄爐是一款小型的電弧熔煉爐，可在不破壞氣體保護(hù)氣氛的條件下翻轉(zhuǎn)合金錠進(jìn)行多次熔煉，且可以同時(shí)制備多個(gè)樣品（少于7個(gè)），是高等院校、科研院所制備
更新時(shí)間:2025-01-02
1100℃高壓爐otf-1200x-hp-55是開啟式高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，最高壓力高達(dá)20mpa，最高溫度可達(dá)1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護(hù)氣體，是用于高壓制備新材料，以及作為小型熱等靜壓處理合金樣品的理想設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-01-02
800℃雙溫區(qū)高壓爐otf-1200x-ii-hvhp-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 psi高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。本機(jī)采用pid方式進(jìn)行控
更新時(shí)間:2025-01-02
800℃高壓爐otf-1200x-hvhp-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 psi高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。
更新時(shí)間:2025-01-02
生長(zhǎng)納米線cvd爐otf-1200x-4-nw是一種緊湊型cvd爐，專為生長(zhǎng)各種納米線而設(shè)計(jì)，基片最大3″。在法蘭的左側(cè)裝有一個(gè)小加熱器，可對(duì)輸入的氣體、液體、固體進(jìn)行預(yù)加熱后進(jìn)入 cvd 爐進(jìn)行納米線的生長(zhǎng)。其可滑動(dòng)的樣品架使操作更為簡(jiǎn)單。
更新時(shí)間:2025-01-02
200℃雙管三溫區(qū)管式爐（石墨烯生長(zhǎng)）otf-1200x-iii-d5-4最高工作溫度可以達(dá)到1200℃，專門針對(duì)于用cvd方法在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜物質(zhì)，如石墨烯、太陽(yáng)能電池的電極材料和其他電池電極材料等。
更新時(shí)間:2025-01-02
1700℃立式淬火爐gsl-1700x-80vtq采用直徑80mm的氧化鋁爐管、下置淬冷水箱結(jié)構(gòu)，專為淬火樣品能從高溫狀態(tài)進(jìn)入冷水或油等淬冷介質(zhì)中快速冷卻而設(shè)計(jì)，以研究材料階段性過(guò)渡和微觀結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-01-02
"真空立式淬火爐otf-1200x-4-vtq是一款立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個(gè)密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從最高溫度1200℃環(huán)境到冰水或冷油中，可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能。
更新時(shí)間:2025-01-02
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