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燃燒爐產(chǎn)品及廠家

OTF-1200X-S-DVD小型坩堝移動管式爐
產(chǎn)品簡介：otf-1200x-s-dvd是一款小型坩堝移動管式爐（通過磁鐵推動坩堝移動），其爐管直徑為50mm,爐體工作溫度為≤1200℃，此款設備設計針對于直接蒸發(fā)沉積或快速熱處理實驗，用于二維材料的生長。
更新時間:2025-01-02
帶3路浮子混氣RTP管式爐RTP-1000-LV3F
帶3路浮子混氣rtp管式爐rtp-1000-lv3f是專為半導體基片、太陽能電池及其它樣品（尺寸可達3"）的退火而設計，配有3路流量計和機械泵。本機采用 9kw的紅外燈進行加熱，最快升溫速度可達 100℃/s，配有rs485 接口，可以通
更新時間:2025-01-02
小型1000℃RTP爐OTF-1200X-4-RTP
小型1000℃rtp爐otf-1200x-4-rtp 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4"石英管和真空法蘭，是專為半導體或太陽能電池基片（最大3"）的退火而設計。本機采用10kw紅外燈管加熱，最快升溫速度為 50℃/s，設有30段溫度控制，精度為±1℃。此外，通過rs485口和控制軟件可在計算機上實現(xiàn)實時控制和溫度曲線顯示。
更新時間:2025-01-02
可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL
0x-4-rtp-sl是一種快速熱處理爐，采用紅外燈加熱和移動爐體快速冷卻，可獲得最高升溫速率為100°c/s 、降溫速率為5°c/s。
更新時間:2025-01-02
MSM20-8（非自耗式）微型金屬熔煉吸鑄爐
產(chǎn)品簡介：msm20-8（非自耗式）微型金屬熔煉吸鑄爐是一款小型的電弧熔煉爐，可在不破壞氣體保護氣氛的條件下翻轉合金錠進行多次熔煉，且可以同時制備多個樣品（少于7個），是高等院校、科研院所制備
更新時間:2025-01-02
1100℃高壓爐OTF-1200X-60UV
1100℃高壓爐otf-1200x-hp-55是開啟式高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，最高壓力高達20mpa，最高溫度可達1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護氣體，是用于高壓制備新材料，以及作為小型熱等靜壓處理合金樣品的理想設備。
更新時間:2025-01-02
800℃雙溫區(qū)高壓爐OTF-1200X-II-HVHP-80
800℃雙溫區(qū)高壓爐otf-1200x-ii-hvhp-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 psi高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。本機采用pid方式進行控
更新時間:2025-01-02
800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80
800℃高壓爐otf-1200x-hvhp-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 psi高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。
更新時間:2025-01-02
生長納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW
生長納米線cvd爐otf-1200x-4-nw是一種緊湊型cvd爐，專為生長各種納米線而設計，基片最大3″。在法蘭的左側裝有一個小加熱器，可對輸入的氣體、液體、固體進行預加熱后進入 cvd 爐進行納米線的生長。其可滑動的樣品架使操作更為簡單。
更新時間:2025-01-02
1200℃雙管三溫區(qū)管式OTF-1200X-III-D5-4
200℃雙管三溫區(qū)管式爐（石墨烯生長）otf-1200x-iii-d5-4最高工作溫度可以達到1200℃，專門針對于用cvd方法在金屬箔上生長薄膜物質，如石墨烯、太陽能電池的電極材料和其他電池電極材料等。
更新時間:2025-01-02
1700℃立式淬火爐GSL-1700X-80VTQ
1700℃立式淬火爐gsl-1700x-80vtq采用直徑80mm的氧化鋁爐管、下置淬冷水箱結構，專為淬火樣品能從高溫狀態(tài)進入冷水或油等淬冷介質中快速冷卻而設計，以研究材料階段性過渡和微觀結構。
更新時間:2025-01-02
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"真空立式淬火爐otf-1200x-4-vtq是一款立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從最高溫度1200℃環(huán)境到冰水或冷油中，可用于研究材料相轉變和微結構性能。
更新時間:2025-01-02

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